该晶圆制作厂在华中城市，常见生產8屏幕尺寸半导体设备晶圆，日访问量废液尾气减排规范标准量约800吨。伴随生產的过程中选用海量氢佛酸采取晶圆蚀刻，导至废液中氟化物浓度值多达200-300mg/L，远超国家地区尾气减排规范标准规范标准（10mg/L下列）。 化工废水材质及源头 焦化废水基本来源于二个各个环节： 晶圆蚀刻工艺程序 ：含高氧化还原电位氟化物（HF）、氯化铵及一点巨资属 化学式机械厂抛光处理（CMP）污水 ：含奈米级硅颗粒状、有机质络合剂 机冲洗废液 ：含异丙醇、氯离子等巧妙物 加工处理过程过程 选择"药剂学积累+沥青混凝土积累+强度过滤水"3级清理体统： 特级处里 ：加药氯化钙和氢氧化物钙，行成氟化钙奠定，氟化物除掉率达85% 2级治理 ：加入PAC（汇聚氯化铝）和PAM（聚乙烯酰胺），去掉悬浊液态影响物 三类处置 ：依据多材质滤过器和活性氧炭活性炭吸附，出水出水氟化物氨水浓度相对稳定在8mg/L下例 重中之重生产设备是指：pH自动式转换体系、斜管析出池、板框压滤设备（工业废水缺水）。 之后成效 该项目程序运行两年数据库数据监测库体现 ： 氟化物均匀浓度值：7.2mg/L（降至的国家标淮） COD出掉率：92% 污泥处理含水量率：≤65% 年回收公司氟化钙副软件约150吨，进行网络资源化再生用